Processo diretto di rivestimento acido di rame Substrato di acciaio Soluzione di rivestimento acido di rame Brillante
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Processo di rivestimento diretto del rame con acido
,Acid copper plating su substrato di acciaio
,Lumificante per rivestimento diretto di rame con acido
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TipoProiettore
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CaratteristicaAcid copper plating
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CaratteristicaPlastificazione diretta in rame
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SubstratoAcciaio e acciaio inossidabile
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Luogo di origineCina
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MarcaFENGFAN
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Numero di modelloFI-ZL001
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Quantità di ordine minimoNegoziabile
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PrezzoNegoziabile
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Imballaggi particolariImballaggio standard per l'esportazione
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Tempi di consegna15-25 giorni lavorativi
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Termini di pagamentoL/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
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Capacità di alimentazione200000pcs/giorno
Processo diretto di rivestimento acido di rame Substrato di acciaio Soluzione di rivestimento acido di rame Brillante
Processo di ramatura acida diretta; Soluzione di ramatura acida su substrato in acciaio Ramatura brillante
Caratteristiche
• È una ramatura acida senza cianuro su substrato in acciaio e ferro, particolarmente adatta per la placcatura continua.
• Può essere lo strato di base, al posto del nichel semilucido o del nichel Watt o della ramatura alcalina al cianuro di rame.
• Lo spessore dello strato di ramatura in rame può raggiungere più di 200μm.
• Non contiene cianuro, quindi è facile trattare le acque reflue e ha scarso inquinamento per l'ambiente.
• La manutenzione del bagno è semplice e la durata è lunga.
• Ramatura in rame ad alta velocità, alta efficienza di corrente e buona capacità di placcatura profonda, particolarmente adatta per la ramatura in rame ad alta velocità e ad alta corrente da bobina a bobina.
COMPOSIZIONE DEL BAGNO E CONDIZIONI OPERATIVE
| Condizioni operative | Intervallo (placcatura a rack) | Composizione del bagno | ||
| Rame di resa | Rame spesso | Rame brillante | ||
| Solfato di rame (CuSO4·5H2O) | 80 ～ 250 g/L | 100 g/L | 100 g/L | 200 g/L |
| Acido solforico (H2SO4) | 60 ～ 100 g/L | 70 g/L | 80 g/L | 60 g/L |
| FI-ZL001 A | 5 ～ 25 ml/L | — | — | 3 ml/L |
| FI-ZL001 B | 50 ～ 100 ml/L | 50 ml/L | 100 ml/L | — |
| FI-ZL001 C | 50 ～ 100 ml/L | 50 ml/L | 100 ml/L | — |
| Temperatura | 20 ～ 40 ℃ | 30 ℃ | 30 ℃ | 30 ℃ |
| Densità di corrente catodica | 1 ～ 10 A/dm2 | 1~3 A/dm2 | 3 A/dm2 | 3~10 A/dm2 |
| Filtro | Filtrazione continua | |||
| Agitazione | Movimento catodico o agitazione ad aria | |||
| Anodo | Rame fosforoso | |||
| Catodo | Rapporto area anodo e catodo 2:1 | |||
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